Grain-boundary conduction control and electrical characterization of n-type nanodiamond thin films for ultralow loss devices
用于超低损耗器件的 n 型纳米金刚石薄膜的晶界传导控制和电学表征
基本信息
- 批准号:19560678
- 负责人:
- 金额:$ 2.91万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2007
- 资助国家:日本
- 起止时间:2007 至 2008
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
ダイヤモンドは超低損失デバイスを実現し、省エネルギー・低環境負荷に貢献できる夢の半導体材料であるが、n型のドーピングが困難である。本研究では、窒素ドープナノダイヤモンド薄膜のもつ特異な粒界伝導特性の制御によって、高いn型伝導性を実証した。またその成果をもとに、ヘテロ構造デバイスの試作と評価を行い、ダイヤモンド超低損失デバイスの実現に必要な技術基盤を確立した。
金刚石是一种梦想的半导体材料,可以实现超低损耗器件,有助于节约能源和降低环境影响,但很难做到n型掺杂。在这项研究中,我们通过控制氮掺杂纳米金刚石薄膜独特的晶界传导特性,展示了高n型电导率。基于这些结果,我们还制造并评估了原型异质结构器件,并为实现超低损耗金刚石器件奠定了必要的技术基础。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Origin of low threshold field emission from nitrogen-incorporated nanocrystalline diamond films
- DOI:10.1063/1.3115767
- 发表时间:2009-04-06
- 期刊:
- 影响因子:4
- 作者:Ikeda, Tomohiro;Teii, Kungen
- 通讯作者:Teii, Kungen
Phase control and electrical properties of undoped and nitrogen-doped nanodiamond films deposited from Ar-rich microwave plasmas
富氩微波等离子体沉积的未掺杂和氮掺杂纳米金刚石薄膜的相控制和电性能
- DOI:
- 发表时间:2007
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Ikeda;K. Takeguchi;K. Teii
- 通讯作者:K. Teii
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