Ultra-precise Wash about Electron and Electric Material Using Electrolyzed Water

利用电解水对电子电气材料进行超精密清洗

基本信息

  • 批准号:
    17560630
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.43万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2005
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2005 至 2008
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究は, 環境および人体に悪影響を与えない希薄電解質塩溶液の電解水を電子・電気材料の表面洗浄に応用することを目的としている. まず, 電解還元水のシリコン材表面に与えている影響, シリコンウエハの超精密洗浄および研磨における基本特性を解明した. つぎに, 電解酸化水のCu, Ni, Alおよびその合金の表面に及ぼす影響, これらの純金属の表面に対するエッチング, 酸化皮膜除去などについて検討した. 本研究によって, 電解水は, 充分に電子・電気材料の表面洗浄に応用できることを明らかにした.
本研究的目的是将电解水(一种稀电解质盐溶液)应用于电子电气材料的表面清洁,而不会对环境或人体产生不利影响。首先,我们将研究电解还原水的效果。接下来,我们研究了电解氧化水对Cu、Ni、Al及其合金表面的刻蚀效果。这些纯金属的表面,氧化膜的去除等。我们考虑了以下内容。这项研究表明,电解水完全可以应用于电子电气材料表面的清洗。

项目成果

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专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Fe-42wt%Ni合金の表面に及ぼす希薄NaCl電解水の影響
稀NaCl电解水对Fe-42wt%Ni合金表面的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    佐藤運海;竹ノ内敏一;若林信一
  • 通讯作者:
    若林信一
(超)精密洗浄と清浄度評価
(超)精密清洗及清洁度评价
  • DOI:
  • 发表时间:
    2005
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    佐藤運海;他19名
  • 通讯作者:
    他19名
シリコンウエハーの表面に及ぼすKCI電解還元水のエッチング作用
KCI电解还原水对硅片表面的刻蚀效果
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    酒井祥博;石澤昌史;佐藤運海
  • 通讯作者:
    佐藤運海
リードフレーム用銅合金の表面に及ぼす希薄NaC1電解酸化水の影響
稀NaC1电解氧化水对引线框架用铜合金表面的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    佐藤運海;竹ノ内敏一;南正良
  • 通讯作者:
    南正良
ニッケル材の表面に及ぼす希薄NaC1電解水の影響
稀NaC1电解水对镍材料表面的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2006
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    佐藤運海;竹ノ内敏一;若林信一;佐藤元太郎
  • 通讯作者:
    佐藤元太郎
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