シリカガラスおよびエルビウムドープシリカガラスの真空紫外域における光学特性

石英玻璃和掺铒石英玻璃在真空紫外区的光学特性

基本信息

批准号：
05750295
负责人：
西川宏之
金额：
$ 0.58万
依托单位：
Tokyo Metropolitan University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1993
资助国家：
日本
起止时间：
1993 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

(1)6.4eVおよび7.9eVエキシマレーザを照射したシリカガラスにおける点欠陥の生成および消滅を電子スピン共鳴および真空紫外分光測定により観測した。Si-Si結合およびSi-H結合を含むシリカガラスにおいては、水素を含有しないシリカガラスと比較して1-2桁高い濃度のSiダングリングボンドの生成を確認した。また、レーザ照射によるSiダングリングボンド生成の動力学を解析した。さらにSi-HおよびSi-OH結合の濃度が欠陥の生成および消滅の動力学に及ぼす影響を調べ、微視的な欠陥生成モデルを確立することが出来た。(The 1993 PAC RIM Meeting:“R.A.Weeks International Symposium on Science and Technology of SiO_2 Related Materials"にて報告。)(2)シリカガラス中の酸素欠乏欠陥のキャラクタリゼーションを行うため、シンクロトン放射光(シングルバンチ運転)を利用して、時間相関単-光子計数法による真空紫外域(>6eV)励起下でのナノ秒・サブナノ秒時間分解蛍光測定を行った。真空紫外励起下で酸素欠乏欠陥の2つの配置間でのinterconversionを初めて観測することが出来た。(第54回応用物理学会学術講演会および電気学会研究会誘電・絶縁材料研究会の計2件の報告を行った。)その他、エルビウムドープシリカガラスのgamma線誘起損失の解析、ゲルマニウムドープシリカガラスのエキシマレーザ誘起ルミネッセンスの観測、ゾル-ゲル法シルカガラスの光学特性に及ぼすNa不純物の影響に関して、第54回応用物理学会学術講演会にて3件の報告をすることが出来た。

(1)通过电子自旋共振和真空紫外光谱观察了6.4eV和7.9eV准分子激光照射下石英玻璃中点缺陷的产生和湮灭。在含有Si-Si键和Si-H键的石英玻璃中，我们证实了Si悬挂键的形成，其浓度比不含氢的石英玻璃高1-2个数量级。我们还分析了激光照射下硅悬挂键形成的动力学。此外，我们研究了Si-H和Si-OH键的浓度对缺陷产生和湮灭动力学的影响，并建立了微观缺陷产生模型。（1993年PAC RIM会议：“R.A.Weeks国际SiO_2相关科学技术研讨会” ) (2) 为了表征石英玻璃中的缺氧缺陷，采用同步辐射（单束操作）利用时间相关单光子计数方法（>6eV）纳秒/亚纳秒时间分辨荧光来表征真空紫外缺陷。测量在激励下进行。我们首次能够在真空紫外激发下观察到两种缺氧缺陷构型之间的相互转化。（在日本应用物理学会第54届学术会议和日本电气工程学会介电绝缘材料研究组上共作了两份报告。）此外，铒中伽马射线引起的损失的分析-掺杂石英玻璃，以及掺铒石英玻璃中伽马射线引起的损耗分析，我们在第 54 届日本应用物理学会年会上发表了三篇关于石英玻璃准分子激光诱导发光的观察以及 Na 杂质对溶胶-凝胶石英玻璃光学性能影响的报告。

项目成果

期刊论文数量（6）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

H.Nishikawa and Y.Ohki: " Effect of hydrogen on the formation of photoinduced E'centers in silica" Proceedings of The 1993 PAC RIM Meeting:“R.A.Weeks International Symposium on Science and Technology of SiO_2 Related Materials".178 (1993)

H.Nishikawa 和 Y.Ohki：“氢对二氧化硅中光诱导 E中心形成的影响”1993 年 PAC RIM 会议记录：“R.A.Weeks 国际 SiO_2 相关材料科学与技术研讨会”.178 (1993)

DOI：
发表时间：
期刊：
影响因子：
0
作者：
通讯作者：

西川宏之、渡辺英紀、伊藤大佐、大木義路: "ゾル-ゲル法シリカガラスの光学特性に及ぼすNa不純物の影響" 第54回応用物理学会学術講演会 27PL/II-10. 2. 806 (1993)

Hiroyuki Nishikawa、Hideki Watanabe、Col. Ito、Yoshimichi Oki：“Na 杂质对溶胶-凝胶二氧化硅玻璃光学性能的影响”第 54 届日本应用物理学会年会 27PL/II-10 (1993) ) )

DOI：
发表时间：
期刊：
影响因子：
0
作者：
通讯作者：

小山武志、道口信行、大木義路、西川宏之、日馬康雄、瀬口忠雄: "エルビウムドープ光ファイバーにおけるgamma線誘起損失の解析" 電気学会研究会誘電・絶縁材料研究会資料DE1-93-165. 11-19 (1993)

Takeshi Koyama、Nobuyuki Michiguchi、Yoshimichi Oki、Hiroyuki Nishikawa、Yasuo Haruma、Tadao Seguchi：“掺铒光纤中伽马射线引起的损耗分析”IEEJ 研究组介电和绝缘材料研究组材料 DE1-93-165。 -19 (1993)