不斉活性化に関する研究

不对称激活研究

基本信息

批准号：
00F00760
负责人：
三上幸一
金额：
$ 1.54万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2000
资助国家：
日本
起止时间：
2000 至 2002
项目状态：
已结题

项目摘要

触媒的不斉合成を基盤としたキラルテクノロジーでは、光学的に純粋な不斉触媒を用いることが常識とされている。当然のことながら、ラセミ触媒を用いるとラセミ生成物しか得られない。これに対して、我々はラセミ触媒に少量のキラルな活性化剤を加えることで、高い不斉収率を達成する"不斉活性化法"の概念を提唱している。しかしながら、通常のラセミ配位子を有するラセミ触媒を用いると2つのジアステレオマー錯体の生成は回避できないため、非常に限られた系にしかこの方法論は適用できない。この問題を克服するために、触媒的不斉合成に用いることさえなかった動的キラルな配位子を導入することを考案した。このラセミ触媒は動的平衡が存在するため、微量の外部不斉源によりその立体を自由自在に制御することが可能である。このように本申請研究では、ラセミ触媒のキラリティーを制御し、引き続く高エナンチオ選択的触媒反応を開発した。ラセミルテニウムおよびパラジウム触媒の不斉活性化法の知見に基づき、中心金属の異なる銅触媒まで不斉活性化の適応範囲を広げた。多点キラル制御された金属触媒を不斉触媒反応に用い、配位子と中心金属との関連性など、これまで得られた全ての知見をもとに、動的キラルなラセミ触媒を触媒量のキラル制御剤によって不斉触媒に変換した。さらに、この不斉触媒を用いて高エナンチオ選択的触媒反応の開発に成功した。以上、これまで触媒的不斉合成に用いることさえなかった動的キラルな配位子を導入し、微量の外部不斉源によりその立体を自由自在に制御することによりラセミ触媒のキラリティーを制御し、引き続く高エナンチオ選択的触媒反応の開発に成功した。

在基于催化不对称合成的手性技术中，使用光学纯的不对称催化剂是众所周知的。当然，使用外消旋催化剂只会产生外消旋产物。针对这一点，我们提出了“不对称活化法”的概念，通过在外消旋催化剂中添加少量手性活化剂来实现高不对称产率。然而，由于使用具有外消旋配体的外消旋催化剂无法避免形成两个非对映体复合物，因此该方法只能应用于非常有限的系统。为了克服这个问题，我们设计了引入动态手性配体，该配体从未用于催化不对称合成。由于该外消旋催化剂具有动态平衡，其空间结构可以通过少量的外部手性源自由控制。通过这种方式，在本次提交的研究中，我们控制了外消旋催化剂的手性，并开发了后续的高度对映选择性催化反应。基于外消旋鎓和钯催化剂的不对称活化方法的知识，我们将不对称活化的范围扩大到包括具有不同中心金属的铜催化剂。使用多点手性控制的金属催化剂进行不对称催化反应，基于迄今为止获得的所有知识，例如配体与中心金属之间的关系，可以将催化量的动态手性外消旋催化剂转化为使用手性的不对称催化剂。控制剂。此外，我们成功地利用这种不对称催化剂开发了高度对映选择性的催化反应。如上所述，通过引入在催化不对称合成中从未使用过的动态手性配体，并使用少量的外部手性源自由控制空间结构，可以控制外消旋催化剂的手性，我们成功地开发了一种高度手性的催化剂。对映选择性催化反应。