パルス磁場による悪性脳腫瘍細胞の増殖動態変化の検討と治療応用への基礎研究

脉冲磁场引起的恶性脑肿瘤细胞增殖动力学变化的检测及治疗应用的基础研究

• 批准号: 07857090
• 负责人: 長島 律子
• 金额: $ 0.51万
• 依托单位: Saitama Medical University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
• 财政年份: 1995
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1995 至 1996
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-07857090/
• 关键词: パルス磁場; 脳腫瘍; S期標識率; 細胞周期

磁場発生装置の物理的特性を考え照射条件を周波数200Hz、強度20Gaussに固定、培地はCO_2非依存性培地とした。細胞はRat glioma C-6で、実験には全て指数関数的増殖期にあるものを用いた。結果: 1.パルス磁場照射群と非照射群でS期標識率および細胞周期を比較した。S期標識率は24時間照射群と非照射群の細胞を6時間毎にBUdRで標識し標識率の変化を比較、細胞周期時間は最初にBUdRで細胞を15分間標識し、その後照射群と非照射群から4時間毎に細胞を固定、32時間まで追跡しFLSm(fraction of labelled cells in the mid S phase)法で比較した。S期標識率は照射開始6時間後の照射群、非照射群でそれぞれ33.5±3.7%(SE)と23.6±4.0%、12時間後33.2±8.1%と26.0±5.6%、18時間後15.2±4.4%と14.8±4.5%、24時間後20.0±6.4%と15.3±5.2%であった。6時間後でp<0.05と両者間の標識率に有意差を認めた。細胞周期時間は照射群約16時間、非照射群約19時間と約3時間照射群で短縮されていた。2.ヌードマウス皮下に細胞を移植し、Control群、ACNU群、磁場照射群、ACNU群+磁場照射群に分け腫瘍成長曲線を比較した。磁場照射は週3回8時間照射としACNU投与は磁場照射と同日で週3回、投与量は2μg/gとした。ACNU群では成長曲線はCont-rol群を下回り、磁場照射群、ACNU+磁場照射群共に成長曲線はControl群を上回った。

考虑到磁场发生器的物理特性，辐射条件的频率为200 Hz，强度为20高斯，并且培养基是CO_2独立的培养基。细胞为大鼠神经胶质瘤C-6，所有实验均在指数生长阶段使用。结果：1。在脉冲磁场照射和非辐照组之间比较S期标记率和细胞周期。每6小时将S期标记率与BUDR进行比较，并且每6小时将辐照和非辐照组的细胞标记为BUDR，并比较标记速率的变化。首先将细胞周期时间用BUDR标记15分钟，然后将细胞从辐照和非辐照组中进行每4小时固定，然后使用长达32小时，然后使用FLSM（中S期中标记的细胞的分数）进行比较。 S期标签率为33.5±3.7％（SE）和23.6±4.0％，33.2±8.1％和12小时后26.0±5.6％，15.2±4.4％和14.8±4.5％和14.8±4.5％，分别在24小时后分别为20.0±6.4％，15.3±5.2％。六个小时后，两者之间的标记率有显着差异，p <0.05。在辐照组中缩短了细胞周期时间约16小时，非辐照组缩短了约19小时。 2。细胞被植入裸小鼠，并在对照组，ACNU组，磁场照射组，ACNU组 +磁场照射组中比较肿瘤生长曲线。磁场照射每周三次辐照8小时，并且ACNU在磁场照射的同一天每周三次给药，剂量为2μg/g。在ACNU组中，生长曲线低于CONT-ROL组，并且磁场辐照组的生长曲线和ACNU+磁场辐照组都超过了对照组。