Production of large-diameter plasmas for plasma processing
用于等离子体处理的大直径等离子体的生产
基本信息
- 批准号:07044308
- 负责人:
- 金额:--
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for International Scientific Research.
- 财政年份:1995
- 资助国家:日本
- 起止时间:1995 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Development of large-diameter uniform plasma sources is of crucial importance for performing a wide-area plasma processing.In order to produce such a uniform plasma a plane-slotted antenna with permanent magnets has been developed to produce an electron cyclotron resonance (ECR) plasma at Tohoku University. This method successfully provides a large-diameter ECR plasma with a uniformity of (]SY.+-.])(3-5)% over a diameter of 40-50 cm. Moreover, a modified magnetron typed plasma source developed at Tohoku University also provides large-diameter uniform radio-frequency (RF) plasmas.On the other hand, high density plasma sources are studied at the Korean Advanced Institute of Science and Technology (Kaist) by using helicon wave heating and inductively coupled plasma production methods at the RF frequency. The diagnostic method employing optical probe has also been developed to evaluate the radical density and its profile in reactive plasmas.The main purpose of this project is to combine such results obtained at Tohoku University and the KAIST to develop a large-diameter uniform plasma source for the wide-area plasma processing. During the project we had two seminars at the KAIST to discuss about the problems and techniques for detecting the uniformity of radical density supplied from the plane ECR antenna plasma source at Tohoku University. The experiments show the importance of radial profile of plasma parameters.
开发大直径均匀等离子体源对于进行大面积等离子体处理至关重要。为了产生这种均匀等离子体,开发了带有永磁体的平面缝隙天线来产生电子回旋共振(ECR)等离子体在东北大学。该方法成功地提供了大直径ECR等离子体,其在40-50 cm直径上的均匀性为(]SY.+-.])(3-5)%。此外,东北大学开发的改良磁控管型等离子体源还提供大直径均匀射频(RF)等离子体。另一方面,韩国高级科学技术研究所(Kaist)正在研究高密度等离子体源在射频频率下使用螺旋波加热和感应耦合等离子体生产方法。还开发了采用光学探针的诊断方法来评估反应等离子体中的自由基密度及其分布。该项目的主要目的是结合东北大学和韩国科学技术院获得的这些结果,开发一种大直径均匀等离子体源,用于广域等离子体处理。项目期间,我们在韩国科学技术院举办了两次研讨会,讨论了检测东北大学平面 ECR 天线等离子体源提供的自由基密度均匀性的问题和技术。实验表明等离子体参数径向分布的重要性。
项目成果
期刊论文数量(10)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Shin Hiyama: "Material processing using a largediameter ECR plasma" Proceedings of The 12th Symposium on Plasma Processing. 237-240 (1995)
Shin Hiyama:“使用大直径ECR等离子体的材料处理”第12届等离子体处理研讨会论文集。
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- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Yunlong Li: "Magnetron-typed rf plasma source" Int.Workshop on Plasmas Sources and Surface Interactions in Material Processing. 61 (1995)
李云龙:“磁控管型射频等离子体源”材料加工中等离子体源与表面相互作用国际研讨会。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Younlong Li: "Control of sputtering in a large-diameter magnetron-typed rf discharge" Proc.12th Symp.on Plasma Processing. 143-146 (1995)
李永龙:“大直径磁控管型射频放电中的溅射控制”Proc.12th Symp.on Plasma Process。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
A.Takahashi: "Plasma production for control of surface reactions" Proceedings of the 33th RIEC Symposium on Photo-and Plasma-Excited Processes on Surface. 57-65 (1995)
A.Takahashi:“用于控制表面反应的等离子体生产”第 33 届 RIEC 表面光和等离子体激发过程研讨会论文集。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Ham S.Uhm: "A study of density in electron-cyclotron-resonance plasma" IEEE Trans. Plasma Science. 23. 628-635 (1995)
Ham S.Uhm:“电子回旋共振等离子体密度的研究”IEEE Trans。
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- 影响因子:0
- 作者:
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