Collaborative Research in Five Fields of Molecular Science
分子科学五个领域的合作研究
基本信息
- 批准号:06044231
- 负责人:
- 金额:$ 5.82万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for international Scientific Research
- 财政年份:1994
- 资助国家:日本
- 起止时间:1994 至 1995
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Two 5+5 meetings were held in the field of (1) application of synchrotoron radiation and (2) material chemistry.The first one was held at IMS on September 2-3,1995.Five British scientists and thirteen Japanese scientists attended, and exchanged information on the activities in both countries.The second one was held at Royal Institution in London.Seven Japanese scientists were dispatched.Useful discussions were made on conductivity and magnetism of various molecular compounds.Two young Japanese scientists were sent to England to carry out collaborative research.Dr.Tanaka of IMS went to University of Liverpool and carried out photoelectron spectroscopy of semiconductor surfaces.XPS measurements were made on the GaAs/Si/GaAs crystals and clarified the electronic structures of Si.Furthermore, RAS (reflectance anisotropy spectroscopy) measurements of Si (100) surface were carried out to investigate the surface were carried out to investigate the surface dynamics and its temperature dependence.Dr.Fujimura of Kyoto University worked at Oxford on the chemical reaction O ('D) + H_2*OH+H.From the measurement of the Doppler profile it was clarified that the scattering is dominant at forward directions and that the reaction cross section depends on the collision energy.
在(1)同步辐射应用和(2)材料化学领域召开了两次5+5会议。第一次会议于1995年9月2-3日在IMS举行。五名英国科学家和十三名日本科学家参加了会议,交流了两国活动的信息。第二次在伦敦皇家研究所举行。派出了七名日本科学家。就各种分子化合物的导电性和磁性进行了有益的讨论。派了两名日本年轻科学家到英国IMS田中博士赴利物浦大学开展半导体表面光电子能谱研究。对GaAs/Si/GaAs晶体进行XPS测量,明确了Si的电子结构。此外,RAS(反射率)各向异性光谱)对Si(100)表面进行了测量,以研究表面动力学及其温度依赖性。京都大学的Fujimura博士在牛津大学从事化学研究反应O ('D) + H_2*OH+H。从多普勒轮廓的测量可以看出,散射在向前方向上占主导地位,并且反应横截面取决于碰撞能量。
项目成果
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专著数量(0)
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