Anwendung Laser-erzeugter XUV-Strahlung zur zeitaufgelösten Untersuchung dynamischer Prozesse an Grenzflächen

应用激光产生的 XUV 辐射进行界面动态过程的时间分辨研究

• 批准号: 5106602
• 负责人: Professor Dr. Helmut Zacharias
• 金额: --
• 依托单位: Center for Soft Nanoscience (SoN)
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Priority Programmes
• 财政年份: 1998
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 1997-12-31 至 2005-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5106602?language=en
• 关键词: Anwendung; Laser; erzeugter; XUV; Strahlung

In diesem Vorhaben sollen Verfahren und Techniken zur Anwendung Hoher Harmonischer mit Photonenenergien zwischen 20 und mehr als 100 eV auf Fragen der Grenzflächenphysik entwickelt werden. Dabei kommen Pulse von weniger als 30 fs Dauer und einer Folgefrequenz von 1 kHz zum Einsatz. Die kurzen Pulsdauern der Hohen Harmonischen ermöglichen es, dynamische Prozesse an Grenzflächen direkt zeitaufgelöst in einer Pump-Probe-Anordnung zu untersuchen. Die Prozesse werden durch einen UV Pumppuls mit weniger als 100 fs Dauer ausgelöst, während mittels Photoelektronenspektroskopie über die Anregung von Innerschalenzustände adsorbierter Moleküle durch eine Hohe Harmonische deren Zerfall oder auch die Bildung neuer Bindungen verfolgt wird. Die Innerschalenzustände ermöglichen dabei eine chemische Identifizierung der Spezies. Durch den Einsatz von Multilagen-Röntgenspiegeln, die nur eine Harmonische mit hoher Effizienz reflektieren, kann die notwendige Zeitauflösung apparativ recht einfach erreicht werden. Zu Beginn der Anwendungen soll die Fragmentierung adsorbierter Moleküle, wie O2 oder CH3X(X=Cl, Br, I) untersucht werden.

在本节中，我们将介绍如何在 20 和 100 eV 的条件下进行调和和调光技术。 von 1 kHz zum Einsatz。 dauer ausgelöst, während mittels Photoelektronenspektroskopie über die Anregung von Innerchalenzustände adsorbierter Moleküle durch eine Hohe Harmonische deren Zerfall oder auch die Bildung neuer Bindungen verfolt wird.化学鉴定。 Moleküle，即 O2 或 CH3X(X=Cl, Br, I) undersucht werden。