Ultrasonic Microspectroscopy of Wide Bandgap Semiconductor Materials

宽带隙半导体材料的超声显微光谱

基本信息

  • 批准号:
    23246075
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 30.53万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 财政年份:
    2011
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2011-04-01 至 2014-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

To realize highly efficient and long life devices using wide bandgap semiconductors, such as AlN, ZnO, SiC, and GaN, it is necessary to employ homogeneous bulk single crystal substrates as well as proper fabrication processes for making homogeneous and high-quality films. To do so, we developed a new method for evaluating semiconductor materials using ultrasonic micro-spectroscopy (UMS) technology as an accurate evaluation technology. Although characterization of epitaxial film is generally difficult because of their elastic anisotropy, we demonstrated usefulness of the evaluation method through measuring velocities of leaky surface acoustic waves by the UMS technology and measuring density based on the Archimedes' principle for Sc doped AlN film specimens.
为了实现使用宽带隙半导体(例如ALN,ZnO,SIC和GAN)实现高效且长寿的设备,有必要采用均匀的散装单晶基质以及适当的制造过程来制作均质和高质量的电影。 为此,我们开发了一种使用超声微光谱技术(UMS)技术评估半导体材料的新方法,作为准确的评估技术。尽管外延膜的表征通常很困难,但由于其弹性各向异性,我们通过测量UMS技术的漏水表面声波的速度,并根据Archimedes的SC掺杂Aln膜标本来测量评估方法的有用性。

项目成果

期刊论文数量(13)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Surface Acoustic Wave Properties of Amorphous Ta_2O_5 and Nb_2O_5 Thin Films Prepared by Radio Frequency Sputtering
射频溅射制备非晶Ta_2O_5和Nb_2O_5薄膜的表面声波性能
  • DOI:
    10.1143/jjap.51.07ga01
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    S.Kakio;K.Hosaka;M.Arakawa;Y.Ohashi;and J.Kushibiki
  • 通讯作者:
    and J.Kushibiki
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  • DOI:
    10.1109/ultsym.2012.0686
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y.Ohashi;T.Karaki;T.Lv;H.Yoshida;M.Arakawa;M.Adachi and J.Kushibiki
  • 通讯作者:
    M.Adachi and J.Kushibiki
超音波計測と電気電子材料
超声波测量与电子电气材料
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    櫛引淳一
  • 通讯作者:
    櫛引淳一
Analyzing Crystals by Ultrasonic Microspectroscopy
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yuji Ohashi;Mototaka Arakawa;and Jun-ichi Kushibiki
  • 通讯作者:
    and Jun-ichi Kushibiki
Evaluation of Acoustical Properties for GaN Single Crystal by the Ultrasonic Microspectroscopy Technology
超声显微光谱技术评价GaN单晶的声学特性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shintaro Hisatake;and Tadao Nagatsuma;Jae-Young Kim and Katsuhiro Ajito;Yuji Ohashi and Jun-ichi Kushibiki
  • 通讯作者:
    Yuji Ohashi and Jun-ichi Kushibiki
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    $ 30.53万
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