Development of electronic applications of high sp 3 ratio amorphous carbon films with assistance of deuterium termination by reduction of electronic defects

通过减少电子缺陷,借助氘终止开发高 sp 3 比率非晶碳薄膜的电子应用

基本信息

  • 批准号:
    15K18038
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.66万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 财政年份:
    2015
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2015-04-01 至 2017-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(4)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Electrical properties of stable isotopic amorphous carbon films
稳定同位素非晶碳薄膜的电性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yutaro Suzuki;Yasuyoshi Kurokawa;Tsuneo Suzuki;Kazuhiro Kanda;Masahito Niibe;Masayuki Nakano;Naoto Ohtake;Hiroki Akasaka
  • 通讯作者:
    Hiroki Akasaka
球へのダイヤモンド状炭素膜の形成
球体上类金刚石碳膜的形成
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Takeshi Ihara;Yusuke Ide;Hideo Nagata;Yoshihito Yagyu;Tamiko Ohshima;Hiroharu Kawasaki and Yoshiaki Suda;河越奈沙,大竹尚登, 赤坂大樹
  • 通讯作者:
    河越奈沙,大竹尚登, 赤坂大樹
Structure and physical properties of stable isotopic amorphous carbon films
稳定同位素非晶碳薄膜的结构和物理性能
  • DOI:
    10.1016/j.diamond.2015.10.024
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4.1
  • 作者:
    Yutaro Suzuki;Yasuyoshi Kurokawa;Tsuneo Suzuki;Kazuhiro Kanda;Masahito Niibe;Masayuki Nakano;Naoto Ohtake;Hiroki Akasaka
  • 通讯作者:
    Hiroki Akasaka
Deposition of the a-BCN:H film formed from tri-methylborazine
由三甲基环硼嗪形成的 a-BCN:H 薄膜的沉积
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Nasa Kawagoshi;Masayuki Nakano;Tetsuya Yamamoto; Junko Hieda;Naoto Ohtake;Hiroki Akasaka
  • 通讯作者:
    Hiroki Akasaka
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