強相関シリコン二次元電子系における量子相転移
强关联硅二维电子系统中的量子相变
基本信息
- 批准号:20029005
- 负责人:
- 金额:$ 4.16万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
- 财政年份:2008
- 资助国家:日本
- 起止时间:2008 至 2009
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
世界最高移動度を誇るSi/SiGeヘテロ接合二次元電子系試料に対して、(1)金属・絶縁体領域転移におけるサイクロトロン共鳴の実験と、(2)谷分離と量子井戸幅との関係を調べるための実験、を行った。(1) に関しては、自作した高感度ボロメータを用いて100GHzのミリ波の透過強度の磁場依存性から、サイクロトロン共鳴吸収線幅を得た。線幅から求めた散乱時間は温度の低下とともに増大し、電気抵抗から得られる散乱時間と、似通った絶対値および温度依存性を示した。100GHzにおける光子のエネルギーは、金属的振る舞いが顕著に観測される温度領域での熱エネルギーよりも高い。実験結果は、散乱時間やその金属的温度依存性が、振動電場のエネルギースケールに依存しないことを示唆する。(2) に関しては、井戸幅の異なる4つの試料に対して、磁場中の電気伝導測定を行った。まず、谷分離に相当するランダウ準位充填率ν=1での縦抵抗の極小値の温度依存性から活性化エネルギーを求めた。井戸幅4nmおよび5.3nmの試料における活性化エネルギーは、井戸幅10nmおよび20nmの試料における活性化エネルギーよりも一桁程度大きかった。こうして得られた活性化エネルギーには、電子相関による増強効果も含まれるため、谷分離エネルギーに1対1に対応させることはできないが、さらにゼーマン分離エネルギーと比較することにより、裸の谷分離エネルギーのおおよその値を得ることができた。裸の谷分離エネルギーと井戸幅との関係に関しては、シリコン中の電子スピンを量子計算に応用した場合のデゴヒーレンスの問題と関連して近年注目され、多くの計算が行われてきたが、今回初めて検証実験が行われた。
针对全球最高迁移率的Si/SiGe异质结二维电子体系样品,(1)金属-绝缘体区域跃迁的回旋共振实验,(2)谷间距与量子阱宽度关系的研究。为此目的进行了一项实验。关于(1),我们使用自制的高灵敏度测辐射热计,根据 100 GHz 毫米波传输强度的磁场依赖性获得了回旋共振吸收线宽。从线宽确定的散射时间随着温度的降低而增加,并且与从电阻获得的散射时间表现出相似的绝对值和温度依赖性。 100 GHz 处的光子能量高于明显观察到金属行为的温度范围内的热能。实验结果表明,散射时间及其金属温度依赖性与振荡电场的能级无关。关于(2),我们在磁场中对具有不同孔宽度的四个样品进行了电导率测量。首先,根据朗道能级填充因子 ν = 1(对应于谷分离)下纵向阻力最小值的温度依赖性来确定活化能。孔宽为4 nm和5.3 nm的样品中的活化能比孔宽为10 nm和20 nm的样品中的活化能大约大1个数量级。由于这样得到的活化能还包含了电子相关性的增强作用,因此不能与谷分离能一一对应,但通过进一步与塞曼分离能进行比较,可以确定我们能够获得裸谷分离能的近似值。近年来,由于硅中的电子自旋应用于量子计算时的散散问题,裸谷分离能与阱宽度之间的关系引起了人们的关注,并且已经进行了许多计算,但这是第一次进行了验证实验。
项目成果
期刊论文数量(8)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Cyclotron resonance of two-dimensional electrons in a Si quantum well
硅量子阱中二维电子的回旋共振
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:R.Masutomi;K.Toyama;K.Sasaki;K.Sawano;Y.Shiraki;T.Okamoto
- 通讯作者:T.Okamoto
Insulating phases induced by crossing of partially filled Landau levels in a Si quantum well
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- DOI:10.1103/physrevb.79.241302
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:3.7
- 作者:T. Okamoto;K. Sasaki;K. Toyama;R. Masutomi;K. Sawano;and Y. Shiraki
- 通讯作者:and Y. Shiraki
Evidence for Two-Dimensional Spin-Glass Ordering in Submonolayer Fe Films on Cleaved InAs Surfaces
- DOI:10.1103/physrevlett.101.267204
- 发表时间:2008-12-31
- 期刊:
- 影响因子:8.6
- 作者:Mochizuki, Toshimitsu;Masutomi, Ryuichi;Okamoto, Tohru
- 通讯作者:Okamoto, Tohru
Well-width dependence of valley splitting in Si/SiGe quantum wells
Si/SiGe 量子阱中谷分裂的阱宽依赖性
- DOI:10.1063/1.3270539
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:4
- 作者:K. Sasaki;R. Masutomi;K. Toyama;K. Sawano;Y. Shiraki;and T. Okamoto
- 通讯作者:and T. Okamoto
Landau level crossing and pseudospin phase transitions in Si quantum wells
Si 量子阱中的朗道能级交叉和赝自旋相变
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Kohei Sasaki;Ryuichi Masutomi;Kiyohiko Toyama;Kentarou Sawano;Yasuhiro Shiraki;Tohru Okamoto
- 通讯作者:Tohru Okamoto
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- 发表时间:
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- 影响因子:0
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- 发表时间:
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