Mechanics of deformation and fracture in metal/ceramic nano-laminated thin films

金属/陶瓷纳米层压薄膜的变形和断裂力学

基本信息

  • 批准号:
    22860053
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.96万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
  • 财政年份:
    2010
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2010 至 2011
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

A fabrication method of free-standing metal/ceramic nano-laminate thin film and its tensile testing technique was developed, and the deformation and fracture behavior of free-standing metal/ceramic nano-laminate thin film was investigated. The fracture toughness of Cu/Al_2O_3 laminated film with 5 layers (thickness: 500nm, Cu: 120nm, Al_2O_3: 60nm) was lower than that of Cu film (thickness: 500nm). However, Cu layer with a thickness of only 120nm in laminated film still caused plastic deformation. Moreover, we proposed a novel technique for the fabrication of laminated film with surface nanostructure.
开发了自支撑金属/陶瓷纳米层压薄膜的制备方法及其拉伸测试技术,研究了自支撑金属/陶瓷纳米层压薄膜的变形和断裂行为。五层Cu/Al_2O_3叠层薄膜(厚度:500nm、Cu:120nm、Al_2O_3:60nm)的断裂韧性低于Cu薄膜(厚度:500nm)。然而,层压薄膜中厚度仅为120nm的Cu层仍然会引起塑性变形。此外,我们提出了一种制造具有表面纳米结构的层压薄膜的新技术。

项目成果

期刊论文数量(11)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
イオンビーム支援蒸着法により成膜したTiN薄膜の破壊挙動
离子束辅助沉积法沉积TiN薄膜的破坏行为
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    中谷正憲;花木聡;内田仁
  • 通讯作者:
    内田仁
Mechanical property of nano-laminated TiN films with island-like morphology by ion beam assisted deposition
离子束辅助沉积岛状形貌纳米层压TiN薄膜的机械性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Masanori Nakatani;Takuya Ohsawa;Satoshi Hanaki;Hitoshi Uchida
  • 通讯作者:
    Hitoshi Uchida
イオンビーム支援硬質窒化物薄膜の作製と特性評価
离子束辅助硬质氮化物薄膜的制备与表征
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    三好悠司;並木周;北山研一;内田仁,花木聡,中谷正憲
  • 通讯作者:
    内田仁,花木聡,中谷正憲
島状表面ナノ構造を有するTiN薄膜の創製と機械的特性
具有岛状表面纳米结构的TiN薄膜的制备和机械性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    中谷正憲;大澤拓也;花木聡;内田仁
  • 通讯作者:
    内田仁
SiN/SiC積層薄膜の創製とその自己き裂治癒能力
SiN/SiC多层薄膜的制备及其自裂纹愈合能力
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M. Nakatani;J. Nishimura;S. Hanaki;H. Uchida;西村淳樹,中谷正憲,花木聡,内田仁;西村淳樹,中谷正憲,花木聡,内田仁
  • 通讯作者:
    西村淳樹,中谷正憲,花木聡,内田仁
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