Preparation of lanthanide and actinide compounds by CVD method using volatile beta-diketone chelates

挥发性β-二酮螯合物CVD法制备镧系和锕系化合物

基本信息

  • 批准号:
    04640575
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.28万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    1992
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1992 至 1993
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

Volatile metal chelates have been used in a wide of applications as fuel additives and catalysts, as metal vapor sources, and in trace metal analysis.There is growing interest in volatile metal b-diketone chelates as vapor source for chemical vapor deposition(CVD). In this work, we are interested in CVD method using volatile beta-diketone chelates with 2,2,6,6, -tetramethyl-3,5-haptanedione(thd), and developed the new preparation method of the metal oxide, sulfide and fluoride films.(1). Preparation of lanthanide fluoride and chloride films was studied by chemical vapor deposition(CVD) using Ln(thd)_3 (Ln=lanthanide(III) ; thd=2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato ligand) and Y(thd)_3 with gas mixture systems of CF_2Cl_2 (difluorodichloromethane)/O_2 and CF_2Cl_2/H_2.Two kinds of fluorides, LnOF oxyfluoride and LnF_3 trifluoride were obtained separately along a CVD tube by the reaction of Ln(thd)_3 chelates with CF_2Cl_2/O_2 gas system. The chemical characteristics of the CVD products were considered from the points of thermochemical view.(2). We here describe some characteristics of (2,2,6,6, -retramethyl-3,5-heptanedionato) thallium(I), and preliminary experiments in the CVD between this chelate and some reactant gases. The precipitation was isolated by filtration, allowed to dry, and was purified by sublimation in vacuum. In conclusion, the present Tl(thd) chelate is useful and porential as a thallium vapor source for CVD and gas-phase reaction investigations.
挥发性金属螯合物已广泛应用于燃料添加剂和催化剂、金属蒸气源以及痕量金属分析中。人们对挥发性金属b-二酮螯合物作为化学气相沉积(CVD)的蒸气源越来越感兴趣。在这项工作中,我们对使用挥发性β-二酮与2,2,6,6,-四甲基-3,5-庚二酮(thd)螯合物的CVD方法感兴趣,并开发了金属氧化物、硫化物和金属氧化物的新制备方法。氟化膜。(1).研究了采用Ln(thd)_3(Ln=镧系元素(III);thd=2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮配体)化学气相沉积(CVD)法制备镧系元素氟化物和氯化物薄膜。 Y(thd)_3采用CF_2Cl_2(二氟二氯甲烷)/O_2和CF_2Cl_2/H_2混合气体体系。两种通过Ln(thd)_3螯合物与CF_2Cl_2/O_2气体体系沿CVD管反应分别得到氟化物、LnOF氟氧化物和LnF_3三氟化物。从热化学角度考虑CVD产物的化学特性。(2).我们在这里描述了 (2,2,6,6,-retramethyl-3,5-heptanedionato) 铊 (I) 的一些特性,以及该螯合物和一些反应气体之间 CVD 的初步实验。通过过滤分离沉淀,使其干燥,并通过真空升华纯化。总之,本发明的 Tl(thd) 螯合物作为铊蒸气源可用于 CVD 和气相反应研究。

项目成果

期刊论文数量(16)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Ryohei AMANO and Yoshimobu SHIOKAWA: "Chemical vapor deposition using lanthanide beta-diketone chelates with difluorodichloromethane" J.Radioanal.Nucl.Chem.172. 81-86 (1993)
Ryohei AMANO 和 Yoshimobu Shiokawa:“使用镧系元素 β-二酮螯合物与二氟二氯甲烷进行化学气相沉积”J.Radioanal.Nucl.Chem.172。
  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Ryohei AMANO: "A Volatile thallium chelate,(2,2,6,6-tetrametlyl-3,5-heptanedionato)Tl(I)" Inorganica Chimica Acta. 203. 9-10 (1993)
Ryohei AMANO:“挥发性铊螯合物,(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮)Tl(I)”无机化学学报。
  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
天野良平,塩川佳伸: "Chemical vapor deposition using lanthanide β-diketone chelates with difluorodichloromethane." J.Radioanal.Nucl.Chem.172. 81-86 (1993)
Ryohei Amano、Yoshinobu Shiokawa:“使用镧系元素 β-二酮螯合物与二氟二氯甲烷进行化学气相沉积。”J.Radioanal.Nucl.Chem.172 (1993)。
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  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
天野良平,塩川佳伸: "A volatile thallium chelate,(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)Tl(1)." Inorganica Chimica Acta. 203. 9-10 (1993)
Ryohei Amano,Yoshinobu Shiokawa:“挥发性铊螯合物,(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮)Tl(1)。无机化学学报 203. 9-10 (1993)”
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Ryohei AMANO: "Chemical vapor deposition using lanthanide β-diketone chelates with difluorodichloromethane" J.Radioanal.Nucl.Chem.,Articles. (1993)
Ryohei AMANO:“使用镧系元素 β-二酮螯合物与二氟二氯甲烷进行化学气相沉积”J.Radioanal.Nucl.Chem.,文章(1993)。
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