Microscopic analysis on surface reaction induced by laser irradiation and its application to atomic layr epitaxy

激光辐照引起的表面反应的显微分析及其在原子层外延中的应用

基本信息

  • 批准号:
    06452111
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 4.61万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    1994
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1994 至 1995
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

Control of GaP growth at the atomic-layr level has been achieved by laser-triggering in metalorganic molecular beam epitaxy (MOMBE) under a simultaneous supply of triethylgallium and thermally cracked PH_3. The growth rate of GaP was enhanced at low substrate temperatures by ultraviolet light emitted from a N_2 laser. The growth rate is controlled by either the TEGa supply between laser pulses or the photon number, and it shows saturation with a high TEGa supply. This suggests that the adsorption of TEGa on a surface saturates.Surface reactions triggered by pulsed laser irradiation for GaP growth were studied with reflection high-energy electron diffraction (RHEED) at a low temperature of 350゚C IN MOMBE.On the laser irradiation, the intensity of RHEED showed an abrupt decrease followed by gradual recovery. The abrupt decrease indicates that adsorbed TEGa on a GaP surface is photo-decomposed by the laser irradiation. The intensity recovery had much dependence on PH_3 flow rate, which indicates that the intensity recovery is related with surface reaction between photo-decomposed TEGa and P atoms. This result shows that the decomposition of TEGa by laser irradiation and the formation of GaP occur alternately under continuous supply of source geses. This opens up a new mode of ALE triggered by laser irradiation without alternate supply of source gases.
在同时供应三乙基镓和热裂解PH_3的情况下,通过激光触发金属有机分子束外延(MOMBE)实现了原子层水平的GaP生长控制。紫外光在低衬底温度下提高了GaP的生长速率。从 N_2 激光器发射的生长速率由激光脉冲之间的 TEGa 供应或光子数控制,并且在高 TEGa 供应下表现出饱和。这表明TEGa在表面上的吸附饱和。在MOMBE中,在350°C的低温下,利用反射高能电子衍射(RHEED)研究了脉冲激光照射引发的GaP生长的表面反应。 RHEED 的强度呈现出突然降低然后逐渐恢复的趋势,这表明 GaP 表面上吸附的 TEGa 被激光光分解。强度恢复与PH_3流量有很大的依赖性,这表明强度恢复与光分解的TEGa和P原子之间的表面反应有关。该结果表明TEGa在激光照射下发生分解并形成GaP。这开辟了一种由激光照射触发的 ALE 无需交替供应源气体的新模式。

项目成果

期刊论文数量(18)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
M. Yoshimoto: "In-situ RHEED observation on surface reactions in laser-triggered chemical beam epitaxy of GaP" Applied Surface Science. 79/80. 227/231 (1994)
M. Yoshimoto:“激光触发化学束外延 GaP 表面反应的原位 RHEED 观察”应用表面科学。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Hiroyuki Matsunami: "In-situ Reflection High-Energy Electron Diffraction Observation of Laser-Triggered Gap Growth in Chemical Beam Epitaxy" J.Crystal Growth. 136. 89-93 (1994)
Hiroyuki Matsunami:“化学束外延中激光触发间隙生长的原位反射高能电子衍射观察”J.Crystal Growth。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Hiroyuki Matsunami: "In-situ RHEED Observation on Surface Reactions in Laser-Triggered Chemical Beam Epitaxy of Gap" Appl.Surface Science. 79/80. 227-231 (1994)
Hiroyuki Matsunami:“激光触发化学束间隙外延表面反应的原位 RHEED 观察”Appl.Surface Science。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
M. Yoshimoto: "Laser decomposition of surface adsorbed metalorganics in MOMBE" Transaction Materials Research Society, Japan. 19A. 163-166 (1994)
M. Yoshimoto:“MOMBE 中表面吸附金属有机物的激光分解”,日本材料研究学会交易。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
M.Yoshimoto: "In-situ RHEED observation on surface reactions in laser-triggered chemical beam epitaxy of GaP" Applied Surface Science. 79/80. 227-231 (1994)
M.Yoshimoto:“激光触发化学束外延 GaP 表面反应的原位 RHEED 观察”应用表面科学。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
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    {{ item.publish_year }}
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  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

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{{ showInfoDetail.title }}

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