In-Situ Ion Beam Measurement of Electrodeposition Reaction

电镀反应的原位离子束测量

基本信息

  • 批准号:
    03453075
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.39万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    1991
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1991 至 1993
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

The feasibility of In-Situ PIXE spectroscopy for electrodeposition reaction analysis has been demonstrated, by showing the experimental results of electrodeposition of copper, iron and nickel-cabalt alloy, as well as those of anodic dissolution of copper and iron, as examples.This was achieved by the following three major successful results :(1)Thin film electrode suitable for ion beam irradiation has been prepared by sputtering technique, which is composed of organic membrance, chromium oxide film and copper film.(2)Electrolytic cell with the above thin film electrode at one side of the walls and with an electolyte circulating system has been constructed, by which In-Situ ion beam irradiation under constant electrolytic condition could be achieved through the experiment.(3)Differential pumping system in the beam line has developed.
以铜、铁、镍钴合金电沉积以及铜、铁阳极溶解实验结果为例,论证了原位PIXE光谱用于电沉积反应分析的可行性。取得了以下三大成功成果:(1)采用溅射技术制备了由有机膜、氧化铬膜和铜膜组成的适合离子束辐照的薄膜电极。(2)电解池构建了在壁面一侧设置上述薄膜电极和电解质循环系统,通过实验实现了恒定电解条件下的原位离子束辐照。(3)束流内差动泵浦系统线已发展。

项目成果

期刊论文数量(9)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
森谷 公一,吉田 紘二,伊藤 靖彦: "NiーCoの合金電析のInーSitu測定" 電気化学および工業物理化学.
Koichi Moriya、Koji Yoshida、Yasuhiko Ito:“镍钴合金沉积的原位测量”电化学和工业物理化学。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
H.Moriyama, T.Nagae, K.Moritani and Y.Ito: "A Comparison of Production of Irradiation Defects in Lithium Ceramics" Fusion Technology. 1434-1438 (1993)
H.Moriyama、T.Nagae、K.Moritani 和 Y.Ito:“锂陶瓷中辐照缺陷产生的比较”聚变技术。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
H.Moriyama, T.Nagae, K.Moritani and Y.Ito: "A Comparison of Production Behavior of Irradiation Defects in Lithium Ceramics" Fusion Technology. 1434-1438 (1993)
H.Moriyama、T.Nagae、K.Moritani 和 Y.Ito:“锂陶瓷中辐照缺陷的生产行为比较”聚变技术。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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Y.Ito,T.Murata,S.Yoshizawa,and Y.Fukunaka:“AgNO_3-NaNO_3-KNO_3 中沿银平面垂直阴极自然对流的离子传质速率的干涉研究”第二届国际电化学研讨会论文集
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  • 通讯作者:
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知道了