Study on localized surface plasmon resonance on III-nitride semiconduvtors in deep-UV region

深紫外区III族氮化物半导体局域表面等离子体共振研究

基本信息

  • 批准号:
    25600090
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.58万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 财政年份:
    2013
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2013-04-01 至 2015-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(44)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
HVPE homoepitaxy on freestanding AlN substrate with trench pattern
  • DOI:
    10.1002/pssc.201400202
  • 发表时间:
    2015-04
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yoshinobu Watanabe;H. Miyake;K. Hiramatsu;Y. Iwasaki;S. Nagata
  • 通讯作者:
    Yoshinobu Watanabe;H. Miyake;K. Hiramatsu;Y. Iwasaki;S. Nagata
Effects of threading dislocation on MOVPE growth of Si-doped AlN
穿透位错对Si掺杂AlN MOVPE生长的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    G. Nishio;H. Miyake and K. Hiramatsu
  • 通讯作者:
    H. Miyake and K. Hiramatsu
エピタキシャル成長のためのGaN 自立基板サーマルクリーニング
用于外延生长的 GaN 独立式衬底热清洗
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    岡田俊祐;三宅秀人;平松和政;宮川鈴衣奈;江龍修;橋詰保
  • 通讯作者:
    橋詰保
Influence of thermal annealing in N2-CO ambient on AlN buffer layer
N2-CO环境下热退火对AlN缓冲层的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    S. Suzuki;H. Miyake;K. Hiramatsu;and H. Fukuyama
  • 通讯作者:
    and H. Fukuyama
Excitation of Surface Plasmon Polariton at the GaP-Au Interface in a High-Refractive-Index Medium
高折射率介质中 GaP-Au 界面表面等离子体激元的激发
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    A. Motogaito;S. Nakamura;J. Miyazaki;H. Miyake and K. Hiramatsu
  • 通讯作者:
    H. Miyake and K. Hiramatsu
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HIRAMATSU Kazumasa其他文献

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Nano-void epitaxy of III-nitride semiconductors and controlling light emitting properties of deep-UV light
III族氮化物半导体纳米空隙外延及深紫外光发光特性控制
  • 批准号:
    24360008
  • 财政年份:
    2012
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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    21360007
  • 财政年份:
    2009
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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    2006
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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  • 批准号:
    15360008
  • 财政年份:
    2003
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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    11555094
  • 财政年份:
    1999
  • 资助金额:
    $ 2.58万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Fabrication of Buried Metal Structure and Reduction of Dislocation Density for Nitride Semiconductors by Selective Area Growth Technique
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    11450012
  • 财政年份:
    1999
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

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    19360007
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    2007
  • 资助金额:
    $ 2.58万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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    7430134
  • 财政年份:
    2007
  • 资助金额:
    $ 2.58万
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