Production of vertical electric field by mid-infrared vector beams for laser micro-machining

用于激光微加工的中红外矢量光束产生垂直电场

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爱尔兰国立大学，都柏林（爱尔兰）

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激光产生等离子体软 X 射线源靶元件的选择

DOI：
10.1364/ol.43.002042
10.1364/ol.43.002042
发表时间：
2018
2018
期刊：
Optics Letters
Optics Letters
影响因子：
3.6
作者：
Tamura Toshiki;Arai Goki;Kondo Yoshiki;Hara Hiroyuki;Hatano Tadashi;Ejima Takeo;Jiang Weihua;Suzuki Chihiro;O’Sullivan Gerry;Higashiguchi Takeshi
Tamura Toshiki;Arai Goki;Kondo Yoshiki;Hara Hiroyuki;Hatano Tadashi;Ejima Takeo;Jiang Weihua;Suzuki Chihiro;O’Sullivan Gerry;Higashiguchi Takeshi
通讯作者：
Higashiguchi Takeshi
Higashiguchi Takeshi

专题序言：空间和实验室等离子体磁重联研究进展，第四部分

DOI：
10.1063/5.0002760
10.1063/5.0002760
发表时间：
2020
2020
期刊：
Physics of Plasmas
Physics of Plasmas
影响因子：
2.2
作者：
Kawasaki Hiromu;Sunahara Atsushi;Shimada Yuta;Ejima Takeo;Jiang Weihua;O’Sullivan Gerry;Nishikino Masaharu;Namba Shinichi;Higashiguchi Takeshi;Hantao Ji and Yasushi Ono,
Kawasaki Hiromu;Sunahara Atsushi;Shimada Yuta;Ejima Takeo;Jiang Weihua;O’Sullivan Gerry;Nishikino Masaharu;Namba Shinichi;Higashiguchi Takeshi;Hantao Ji and Yasushi Ono,
通讯作者：
Hantao Ji and Yasushi Ono,
Hantao Ji and Yasushi Ono,

开发使用 LPP 光源的水窗实验室型软 X 射线显微镜 CXRM

DOI：
10.1017/s1431927618013417
10.1017/s1431927618013417
发表时间：
2018
2018
期刊：
Microscopy and Microanalysis
Microscopy and Microanalysis
影响因子：
2.8
作者：
Ejima Takeo;Ono Yuichi;Ito Keisuke;Kawasaki Hiromu;Higashiguchi Takeshi;Tone Shigenobu;Hatano Tadashi
Ejima Takeo;Ono Yuichi;Ito Keisuke;Kawasaki Hiromu;Higashiguchi Takeshi;Tone Shigenobu;Hatano Tadashi
通讯作者：
Hatano Tadashi
Hatano Tadashi

用于水窗 X 射线辐射源的激光等离子体中产生高电荷金离子

DOI：
10.3390/atoms10040150
10.3390/atoms10040150
发表时间：
2022
2022
期刊：
Atoms
Atoms
影响因子：
1.8
作者：
Wang Jiahao;Kishimoto Maki;Johzaki Tomoyuki;Mizushima Kairi;Kumeda Chihiro;Higashiguchi Takeshi;Sunahara Atsushi;Ohiro Hikari;Yamasaki Kotaro;Namba Shinichi
Wang Jiahao;Kishimoto Maki;Johzaki Tomoyuki;Mizushima Kairi;Kumeda Chihiro;Higashiguchi Takeshi;Sunahara Atsushi;Ohiro Hikari;Yamasaki Kotaro;Namba Shinichi
通讯作者：
Namba Shinichi
Namba Shinichi

符合准莫斯利定律的强软 X 射线源的优化高带电离子产生

DOI：
10.1063/1.5127943
10.1063/1.5127943
发表时间：
2019
2019
期刊：
AIP Advances
AIP Advances
影响因子：
1.6
作者：
Shimada Yuta;Kawasaki Hiromu;Watanabe Kanon;Hara Hiroyuki;Anraku Kyoya;Shoji Misaki;Oba Toru;Matsuda Masaru;Jiang Weihua;Sunahara Atsushi;Nishikino Masaharu;Namba Shinichi;O’Sullivan Gerry;Higashiguchi Takeshi
Shimada Yuta;Kawasaki Hiromu;Watanabe Kanon;Hara Hiroyuki;Anraku Kyoya;Shoji Misaki;Oba Toru;Matsuda Masaru;Jiang Weihua;Sunahara Atsushi;Nishikino Masaharu;Namba Shinichi;O’Sullivan Gerry;Higashiguchi Takeshi
通讯作者：
Higashiguchi Takeshi
Higashiguchi Takeshi