Reduction of defect density in silicon quantum dot light-absorbers using hydrogen plasma treatment

使用氢等离子体处理降低硅量子点光吸收器中的缺陷密度

基本信息

批准号：
20K05075
负责人：
Kurokawa Yasuyoshi
金额：
$ 2.83万
依托单位：
Nagoya University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2020
资助国家：
日本
起止时间：
2020-04-01 至 2023-03-31
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-20K05075/
关键词：
シリコン量子ドットプラズマ太陽電池ベイズ最適化水素

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（23）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Application of Silicon Nanocrystals to Energy Harvesting Devices

硅纳米晶在能量收集装置中的应用

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Yasuyoshi Kurokawa; Fuga Kumagai; Keisuke Shibata; Kazuhiro Gotoh; Satoru Miyamoto; Shinya Kato;Noritaka Usami
通讯作者：
Noritaka Usami

Preparation and thermoelectric characterization of boron-doped silicon nanocrystals/silicon oxide multilayers

硼掺杂硅纳米晶/氧化硅多层膜的制备及热电表征

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Keisuke Shibata ; Shinya Kato ; Masashi Kurosawa ; Kazuhiro Gotoh; Satoru Miyamoto; Noritaka Usami; Yasuyoshi Kurokawa
通讯作者：
Yasuyoshi Kurokawa

シリコンナノ結晶/酸化シリコン複合膜におけるキャリア選択能の水素プラズマ処理温度依存性

硅纳米晶/氧化硅复合薄膜中载流子选择性的氢等离子体处理温度依赖性

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
松見優志;後藤和泰;ビルデマーカス;黒川康良;福谷克之;宇佐美徳隆
通讯作者：
宇佐美徳隆

Photoconductivity measurement of silicon quantum dot multilayers for the Bayesian optimization

用于贝叶斯优化的硅量子点多层光电导测量

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Fuga Kumagai; Kazuhiro Gotoh; Satoru Miyamoto; Shinya Kato; Naoki Matsuo; Shigeru Yamada; Takashi Itoh; Noritaka Usami; Yasuyoshi Kurokawa
通讯作者：
Yasuyoshi Kurokawa

Bayesian optimization of hydrogen plasma treatment in silicon quantum dot multilayer and application to solar cells

硅量子点多层氢等离子体处理的贝叶斯优化及其在太阳能电池中的应用

DOI：
10.1186/s11671-023-03821-9
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
0
作者：
Kumagai Fuga;Gotoh Kazuhiro;Miyamoto Satoru;Kato Shinya;Kutsukake Kentaro;Usami Noritaka;Kurokawa Yasuyoshi
通讯作者：
Kurokawa Yasuyoshi

DOI：
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Kurokawa Yasuyoshi其他文献

Effect of hydrogen plasma treatment on the passivation performance of TiOx on crystalline silicon prepared by atomic layer deposition

氢等离子体处理对原子层沉积晶体硅TiOx钝化性能的影响

DOI：
10.1116/1.5134720
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
2.9
作者：
Miyagawa Shinsuke;Gotoh Kazuhiro;Ogura Shohei;Wilde Markus;Kurokawa Yasuyoshi;Fukutani Katsuyuki;Usami Noritaka
通讯作者：
Usami Noritaka

Effect of hydrogen plasma treatment on the passivation performance of TiOx on crystalline silicon prepared by atomic layer deposition

氢等离子体处理对原子层沉积晶体硅TiOx钝化性能的影响

DOI：
10.1116/1.5134720
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
2.9
作者：
Miyagawa Shinsuke;Gotoh Kazuhiro;Ogura Shohei;Wilde Markus;Kurokawa Yasuyoshi;Fukutani Katsuyuki;Usami Noritaka
通讯作者：
Usami Noritaka

Hydrogen concentration at a-Si:H/c-Si heterointerfaces-The impact of deposition temperature on passivation performance

a-Si:H/c-Si异质界面处的氢浓度-沉积温度对钝化性能的影响

DOI：
10.1063/1.5100086
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
1.6
作者：
Gotoh Kazuhiro;Wilde Markus;Kato Shinya;Ogura Shohei;Kurokawa Yasuyoshi;Fukutani Katsuyuki;Usami Noritaka
通讯作者：
Usami Noritaka

Effect of forming gas annealing on hydrogen content and surface morphology of titanium oxide coated crystalline silicon heterocontacts

合成气体退火对氧化钛涂层晶硅异质接触层氢含量和表面形貌的影响

DOI：
10.1116/1.5134719
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
2.9
作者：
Nakagawa Yuta;Gotoh Kazuhiro;Wilde Markus;Ogura Shohei;Kurokawa Yasuyoshi;Fukutani Katsuyuki;Usami Noritaka
通讯作者：
Usami Noritaka