Extreme Ultraviolet Generation and Spectroscopy in Laser Wakefield Accelerators
激光尾流加速器中的极紫外发生和光谱学
基本信息
- 批准号:2308982
- 负责人:
- 金额:$ 63.7万
- 依托单位:
- 依托单位国家:美国
- 项目类别:Standard Grant
- 财政年份:2023
- 资助国家:美国
- 起止时间:2023-06-01 至 2026-05-31
- 项目状态:未结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
This award supports a study of how powerful lasers may be used to make extreme ultraviolet light sources. Light enables us to see the world around us, both literally with our eyes but also through the use of tools such as microscopes. The smallest objects we can see depend on the color of the light used; blue light can see smaller objects than red light, and ultraviolet light can see smaller objects still. Extreme ultraviolet light can see objects as small as molecules and is the light that is currently used to manufacture state-of-the-art computer chips. High brightness sources of extreme ultraviolet (EUV) light are very difficult and expensive to make. This project aims to understand how extremely powerful lasers may be used to make an EUV light source, and to gauge the practicality of the light for applications. The project will experimentally characterize the emission of EUV light as generated in laser wakefield acceleration (LWFA). There are two main facets of this research: (1) to use EUV emission to characterize and better understand the plasma conditions related to LWFA, and (2) to investigate the potential of LWFA as an EUV light source. Experiments will be performed on PetaWatt laser facilities such as the ZEUS laser, where various acceleration and injection regimes and EUV spectroscopy will be investigated. Numerical modeling of laser-plasma interactions will be performed to determine the most suitable models to describe the physics in this intermediate energy range. With measurements of plasma emission, the plasma temperature will be inferred and correlated with injected charge via simulations.This award reflects NSF's statutory mission and has been deemed worthy of support through evaluation using the Foundation's intellectual merit and broader impacts review criteria.
该奖项支持一项研究如何使用强大的激光来制作极端紫外线光源。 光线使我们能够看到周围的世界,无论是从字面上看,都可以通过使用显微镜等工具。我们可以看到的最小物体取决于所用光的颜色;蓝光比红灯可以看到较小的物体,而紫外线可以看到较小的物体。极端的紫外线可以看到与分子一样小的物体,并且是目前用于制造最先进的计算机芯片的光。极端紫外线(EUV)光的高亮度来源非常困难且昂贵。该项目旨在了解如何使用强大的激光器来制作EUV光源,并评估光的实用性。该项目将通过激光韦克菲尔德加速器(LWFA)中产生的EUV光的发射进行实验表征。这项研究的主要方面有两个主要方面:(1)使用EUV发射来表征和更好地了解与LWFA相关的血浆条件,以及(2)研究LWFA作为EUV光源的潜力。将在Petawatt激光设施(例如宙斯激光器)上进行实验,该设施将研究各种加速度和注射方案以及EUV光谱法。 将对激光 - 血压相互作用进行数值建模,以确定最合适的模型来描述该中间能量范围内的物理。 通过测量血浆排放,血浆温度将通过模拟推断并与注射电荷相关联。该奖项反映了NSF的法定任务,并认为使用基金会的知识分子和更广泛的影响审查标准,认为值得通过评估来获得支持。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
Franklin Dollar其他文献
Breakdown of dipole approximation in strong field ionization
强场电离中偶极近似的击穿
- DOI:
10.1364/cleo_qels.2014.fth5a.9 - 发表时间:
2014 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
D. Popmintchev;Carlos Hernandez;B. Shim;Ming;Franklin Dollar;C. Mancuso;J. A. Pérez;Xiaohui Gao;A. Hankla;Alexander Gaeta;M. Tarazkar;Dmitri Romanov;Robert Levis;A. Jaroń;Andreas Becker;L. Plaja;M. Murnane;H. Kapteyn;T. Popmintchev - 通讯作者:
T. Popmintchev
Franklin Dollar的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('Franklin Dollar', 18)}}的其他基金
CAREER: Coherent Laser Control for Compact Accelerators
职业:紧凑型加速器的相干激光控制
- 批准号:
1753165 - 财政年份:2018
- 资助金额:
$ 63.7万 - 项目类别:
Continuing Grant
相似国自然基金
CYLD调控角质形成细胞PANoptosis在紫外线导致的皮肤损伤中的效应和机制研究
- 批准号:82373502
- 批准年份:2023
- 资助金额:49.00 万元
- 项目类别:面上项目
强紫外线辐射环境下稀土改性沥青紫外老化行为、分子模拟及抗老化机理研究
- 批准号:52373102
- 批准年份:2023
- 资助金额:50.00 万元
- 项目类别:面上项目
Bach2调控窄谱长波紫外线(nbUVA)光损伤-铁死亡的机制研究
- 批准号:82373501
- 批准年份:2023
- 资助金额:49 万元
- 项目类别:面上项目
GSDMD/RIPK3/MLKL轴调控紫外线诱发视网膜光损伤的机制研究
- 批准号:82301226
- 批准年份:2023
- 资助金额:30 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
KIAA1429介导MFAP4-m6A甲基化修饰在紫外线诱导皮肤光老化中的作用和机制研究
- 批准号:82373461
- 批准年份:2023
- 资助金额:49 万元
- 项目类别:面上项目
相似海外基金
Laser-driven system for the generation of coherent extreme-ultraviolet radiation
用于产生相干极紫外辐射的激光驱动系统
- 批准号:
527851411 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 63.7万 - 项目类别:
Major Research Instrumentation
Next generation XUV source for time-resolved nano-ARPES and PEEM
用于时间分辨纳米 ARPES 和 PEEM 的下一代 XUV 源
- 批准号:
22K18270 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 63.7万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Research (Pioneering)
Bioinspired Green Glycolipids as Fugitive Dust Mitigation Agents
仿生绿色糖脂作为扬尘减排剂
- 批准号:
10484307 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 63.7万 - 项目类别:
PFI:AIR - TT: Pulse Shaping for Increased Conversion Efficiency in Extreme Ultraviolet Lithography Sources for the Fabrication of Next Generation Integrated Circuits
PFI:AIR - TT:脉冲整形可提高极紫外光刻源的转换效率,用于制造下一代集成电路
- 批准号:
1701238 - 财政年份:2017
- 资助金额:
$ 63.7万 - 项目类别:
Standard Grant
Next generation high sensitivity polymeric Extreme Ultraviolet (EUV) resists
下一代高灵敏度聚合物极紫外线 (EUV) 光刻胶
- 批准号:
LP120100737 - 财政年份:2012
- 资助金额:
$ 63.7万 - 项目类别:
Linkage Projects